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高精細フォトマスク保護テープタックウェル#155FP

UV平行露光の散乱を抑え、30μｍ以下のファインパターンの再現性を高めます

従来、フォトマスクに保護テープを貼ると、50μｍ以下の細幅パターンの形成が困難でしたが、タックウェル#155FPは、UV領域での高透明化と巻込み気泡の大幅な低減で、露光光の散乱を抑え、ファインパターンの形成を容易にしました。

フィルムマスクだけでなく、ガラスマスクにも使用できます。

従来の液状タイプやコーティングタイプと違い、ラミネーターで貼り合わせるだけですので、取り扱いも簡単です。

項目	単位	#155FP	当社従来品
総厚み	μｍ	20	10
全光線透過率	％	91.6	93.6
400ｎｍ光線透過	％	85.1	81.8
率HAZE	％	1.2	7.3
散乱率	％	1.0	6.8
用途		高密度パッケージ基板	汎用プリント配線板

※記載の数値は測定値であり、保証値ではありません

#155FPを貼り付け、露光・現像
形成されたライン幅（μｍ）／フォトマスクのライン幅（μｍ）

レンズ効果のメカニズム

気泡があると、気泡によるレンズ効果により解像度が劣化します。